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LOPEC from 24.03 - 26.03.19 in Munich

LOPEC 2020 will not take place

Due to the increasing spread of the coronavirus (COVID-19) in Europe and on the basis of the recommendations of the Bavarian State Government as well as of the responsible health authorities, Messe München feels compelled to cancel LOPEC 2020. This measure is taken in consultation with the industry association OE-A, co-organizer of LOPEC, and in responsibility for the health of exhibitors and visitors. The next LOPEC will be held on March 23 to 25, 2021.

9. BAM - 25.03.2020 in Augsburg

BAM 2020 is postponed to spring 2021

Due to the dynamic development of the corona virus and after regular exchange with the health authority of the city of Augsburg, we decided to postpone the BAM 2020 in Augsburg to next year. We regret this situation, but we are convinced that we can offer the conference program next year.




Dear Valued Customers and Business Partners
Our companies are following the current recommendations from respective national and local governments related to alleviating the spread of Coronavirus. We have established a policy and guidelines with regards to travel as well as leisure activities and personal hygiene.
This also means that our employees will be modifying their work patterns for the time being – we have asked that employees where possible should work from home. It is our intention to keep providing support and advice for all product lines, but you might experience longer than normal response times. We hope that you understand. Thank you.
Today the John P. Kummer GmbH has its 40th anniversary.
We want to thank all our business partners who have accompanied us on our way to get a successful and trusting company!
Special thanks to our customers for your trust and longterm cooperation!

We wish you all a Merry Christmas and a successful New Year!

Thank you very much for your support and cooperation this year.


We are glad to introduce our new partner GNR srl - Analytical Instruments Group

GNR develops, manufactures and distributes world-wide optical emission spectrometers, x-ray diffractometers and x-ray fluorescence instruments. 

We are looking forward to present this to our customers.

We are glad to introduce our new partner Lumina Instruments.

Lumina Instruments develops and produce Optical Scanner for Thin Film Defects at the highest level.

We are looking forward to present this system to our customers.

Some Like it HOT, most do not...

The Latest Advancements in Adhesives for Thermal Management

Join us for a webinar on Tuesday, June 11, 2019

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We are celebrating the 30th anniversary of John P Kummer Ltd.
JPK Ltd. was founded on Monday 15th May 1989.

Le procédé «dam & fill» avec deux colles est principalement utilisé dans les cas où un composant doit être protégé par un produit d'encapsulation optiquement transparent ou si une résine glob-top conventionnel est trop visqueuse pour enrober parfaitement autour et au-dessous des fils. Les résines d’encapsulation optiquement transparentes ont généralement une faible viscosité. Une barrière est donc appliquée autour du composant en premier pour éviter que le matériau d'enrobage ne s'écoule sur tout le substrat.

Epo-Tek OG116-31 est un époxy réticulable aux UV. En raison de sa nature thixotropique, il est souvent utilisé comme barrière. Il peut être figé avec la lumière UV en très peu de temps. Ensuite, l'encapsulant, soit une résine UV ou thermodurcissable, peut être appliqué.

L'Epo-Tek OG198-55 a une thixotropie encore plus élevée que l'OG116-31 afin de déposer des barrières plus haute.

Les deux produits ont une résistance chimique et à l'humidité extraordinaire avec une température de transition vitreuse élevée (Tg> 110 ° C).

Comme la plupart des époxydes durcissant aux UV, les deux OG116-31 et OG198-55 sont des produits cationiques. La réticulation UV démarre avec des ions photo-initiateurs. Le processus de durcissement continue jusqu'à ce que tous les polymères soient stabilisés même après l’insolation. Généralement, les résines UV cationiques présentent les avantages de moins faire de retrait et une adhérence supérieure par rapport aux systèmes UV avec radicaux libres. D’autre part, ils ne sont pas affectés dans leur réticulation par un environnement riche en oxygène.

Location:                               France (Grenoble region)
Starting date:                        With immediate effect       
Mandatory requirement:       Willingness to travel at least 50% of working time within France and Europe


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